GB/T 14805.4-2000 用于行政、商业和运输业电子数据交换的应用级语法规则(语法版本号:4) 第4部分:批式电子数据交换语法和服务报告报文(报文类型为CONTRL)
作者:标准资料网 时间:2024-05-05 13:33:17 浏览:8010
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基本信息
标准名称: | 用于行政、商业和运输业电子数据交换的应用级语法规则(语法版本号:4) 第4部分:批式电子数据交换语法和服务报告报文(报文类型为CONTRL) |
英文名称: | Electronic data interchange for administration,commerce and transport(EDIFACT)--Application level syntax rules(Syntax version number:4)--Part 4:Syntax and service report message for batch EDI(Message type--CONTRL) |
中标分类: |
电子元器件与信息技术 >>
信息处理技术 >>
信息处理技术综合 |
ICS分类: |
信息技术、办公机械设备 >>
信息技术应用 >>
信息技术在运输和贸易中的
|
替代情况: | 被GB/T 14805.4-2007代替 |
发布部门: | 国家质量技术监督局 |
发布日期: | 2000-10-17 |
实施日期: | 2001-08-01 |
首发日期: | 2000-10-17 |
作废日期: | 2007-11-01 |
主管部门: | 国家标准化管理委员会 |
归口单位: | 全国电子业务标准化技术委员会 |
起草单位: | 中国标准研究中心 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 2004-04-10 |
页数: | 16页 |
书号: | 155066.1-17684 |
适用范围
本标准定义了批式电子数据交换语法和服务报告报文(CONTRL)
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没有内容
目录
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引用标准
没有内容
所属分类: 电子元器件与信息技术 信息处理技术 信息处理技术综合 信息技术 办公机械设备 信息技术应用 信息技术在运输和贸易中的
【英文标准名称】:Communicationnetworksandsystemsforpowerutilityautomation-Part9-2:Specificcommunicationservicemapping(SCSM)-SampledvaluesoverISO/IEC8802-3(IEC61850-9-2:2011);EnglishversionEN61850-9-2:2011
【原文标准名称】:电力自动化的通信网络和系统.第9-2部分:专用通信设施映像(SCSM).超过ISO/IEC8802-3标准(IEC61850-9-2-2011)的取样值.英文版本EN61850-9-2-2011
【标准号】:DINEN61850-9-2-2012
【标准状态】:现行
【国别】:德国
【发布日期】:2012-05
【实施或试行日期】:2012-05-01
【发布单位】:德国标准化学会(DE-DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:电路网络;指令系统;通信;数据通信;数据传送;定义(术语);电力系统;电气工程;电气保护设备;电子设备;供电;链环;绘制地图;电力系统管理;信号传输;站;变电所;电信;传输
【英文主题词】:Circuitnetworks;Commandsystems;Communication;Datacommunication;Datatransfer;Definitions;Electricpowersystems;Electricalengineering;Electricalprotectionequipment;Electronicequipment;Energysupply;Links;Mapping;Powersystemmanagement;Signaltransmission;Stations;Substation;Telecommunications;Transmission
【摘要】:
【中国标准分类号】:F21
【国际标准分类号】:33_040_40
【页数】:35P;A4
【正文语种】:德语
【英文标准名称】:StandardTestMethodforMeasuringtheDepthofCrystalDamageofaMechanicallyWorkedSiliconSliceSurfacebyAnglePolishingandDefectEtching
【原文标准名称】:用角抛光和疵点侵蚀加工法测量机械加工硅片表面晶体损坏深度的标准试验方法
【标准号】:ASTMF950-2002
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:2002
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.06
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:损伤;电子工程;表面;测量;蚀刻;深度;硅;垫圈;晶体缺陷;抛光
【英文主题词】:bevelpolish;damage-depth;defect;preferentialetch;silicon
【摘要】:ThisstandardwastransferredtoSEMI(www.semi.org)May20031.1Thistestmethoddescribesatechniquetomeasurethedepthofdamage,onorbeneaththesurfaceofsiliconwaferspriortoanyheattreatmentofthewafer.Suchdamageresultsfro
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:6P.;A4
【正文语种】: